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Kostenloses Inhaltsstoff-Profil anlegen Schon ein Konto? AnmeldenAlfaparfSDL Reconstruction | Odbudowująca maska do cienkich włosów zniszczonych 200ml
Inhalt: 200 ml
Produkt AlfaparfSDL Reconstruction | Odbudowująca maska do cienkich włosów zniszczonych 200ml mit 200 ml Inhalt. In der Zusammensetzung haben wir 16 Inhaltsstoffe erkannt, angeführt von Aqua, Cetearyl Alcohol, Behentrimonium Chloride. In der Zusammensetzung haben wir erkannt: Silikone. Unter den erkannten Inhaltsstoffen sind keine Parabene, SLS/SLES oder Mikroplastik enthalten. Erkannt wurden zudem 2 Konservierungsstoffe und 1 Duftstoff. Hinweis: 1 Inhaltsstoff unterliegt EU-Beschränkungen (Methylisothiazolinone). PurScore-Bewertung: 46/100 — Natürlichkeit 48/100, Sicherheit 54/100.
Inhaltsstoffe (16)
Datum der Stoffliste: unbekannt. Der Hersteller kann die Rezeptur seitdem geändert haben.
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