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Kostenloses Inhaltsstoff-Profil anlegen Schon ein Konto? AnmeldenDr.Ceuracle Ganghwa Maska Oczyszczająca z Ryżem 115g
Inhalt: 115g
Das Produkt Ganghwa Maska Oczyszczająca z Ryżem 115g stammt von der Marke Dr.Ceuracle mit 115 ml Inhalt. Die Inhaltsstoffliste enthält 22 Einträge, angeführt von Water, Glycerin, Bambusa Arundinacea Stem Powder. 1 davon ist natürlichen Ursprungs. Unter den erkannten Inhaltsstoffen sind keine Parabene, Silikone, SLS/SLES oder Mikroplastik enthalten. Erkannt wurde zudem 1 Duftstoff. Das Produkt erhielt 53/100 in der PurScore-Bewertung — Natürlichkeit 53/100, Sicherheit 64/100.
Inhaltsstoffe (28)
Datum der Stoffliste: unbekannt. Der Hersteller kann die Rezeptur seitdem geändert haben.
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Oryza Sativa (Rice) ExtractSicherSonstige
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