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maska w płachcie, do skóry problematycznej, Centella
Das Produkt maska w płachcie, do skóry problematycznej, Centella stammt von der Marke THE NICESS VEGAN. Die Inhaltsstoffliste enthält 28 Einträge, angeführt von WATER, GLYCERIN, DIPROPYLENE GLYCOL. Natürlichen Ursprungs ist 1 davon. Unter den erkannten Inhaltsstoffen sind keine Parabene, Silikone, SLS/SLES oder Mikroplastik enthalten. Erkannt wurden zudem 1 Konservierungsstoff und 1 Duftstoff. Das Produkt erhielt 63/100 in der PurScore-Bewertung — Natürlichkeit 55/100, Sicherheit 62/100.
Inhaltsstoffe (28)
Datum der Stoffliste: unbekannt. Der Hersteller kann die Rezeptur seitdem geändert haben.
✎ Inhaltsstoff fehlt? Melden- Sicher
- Sicher
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DIPROPYLENE GLYCOLSicherSonstige
- Malo watpliwy
- Malo watpliwy
- Watpliwy
- Sicher
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HydroxyethylcelluloseSicherSonstige
- Sicher
- Malo watpliwy
- Sicher
- Malo watpliwy
- Sicher
- Sicher
- Sicher
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FragranceWatpliwyDuftstoff
- Sicher
- Sicher
- Sicher
- Sicher
- Sicher
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HYALURONIC ACIDSicherPflege
- Sicher
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HYDROLYZED SODIUM HYALURONATESicherSonstige
- Sicher
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MADECASSIC ACIDSicherSonstige
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ASIATICOSIDESicherSonstige
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ASIATIC ACIDSicherSonstige
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