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SKIN1004Madagascar Centella Hyalu-Cica maski w płachcie, głęboko nawilżające, z Kwasem Hialuronowym — Inhaltsstoffe i ocena
SKIN1004Madagascar Centella Hyalu-Cica

maski w płachcie, głęboko nawilżające, z Kwasem Hialuronowym

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Das Produkt maski w płachcie, głęboko nawilżające, z Kwasem Hialuronowym stammt von der Marke SKIN1004Madagascar Centella Hyalu-Cica. Die Inhaltsstoffliste enthält 43 Einträge, angeführt von WATER, BUTYLENE GLYCOL, GLYCERIN. Natürlichen Ursprungs sind 2 davon. Unter den erkannten Inhaltsstoffen sind keine Parabene, Silikone, SLS/SLES oder Mikroplastik enthalten. Das Produkt erhielt 61/100 in der PurScore-Bewertung — Natürlichkeit 60/100, Sicherheit 72/100.

Inhaltsstoffe (43)

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