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Stay WellDeep Cleansing Bubble Mask głęboko oczyszczająca maska bąbelkowa do twarzy Peach 20g
Nieznana
Stay WellDeep Cleansing Bubble Mask głęboko oczyszczająca maska bąbelkowa do twarzy Peach 20g
Inhalt: 20 ml
Gesamt
PurScore
Natürlichkeit
Sicherheit
Preis/Leistung (keine)
Datenvollständigkeit
52%
Datum der Stoffliste: unbekannt
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Die Inhaltsstoff-Analyse und die Bewertung sind davon unabhängig und vollständig verfügbar.
Auf einen Blick
PurScore-Bewertung 51/100 (Sicherheit 69, Natürlichkeit 47). 15 Inhaltsstoffe laut INCI-Liste.
- enthält Silikone: Disiloxane
- ohne Parabene
- ohne Sulfat-Tenside
- ohne Parfum
- ohne Duftstoff-Allergene
Automatisch aus der INCI-Liste ermittelt; erkannt werden alle gängigen Schreibweisen. Maßgeblich ist die Angabe auf der Packung.
Inhaltsstoffe (15)
Datum der Stoffliste: unbekannt. Der Hersteller kann die Rezeptur seitdem geändert haben.
✎ Inhaltsstoff fehlt? Melden- Sicher
- Sicher
- Sicher
-
Potassium Cocoyl GlycinateSicherSonstige
- Nicht bewertet
- Sicher
- Sicher
- Sicher
- Sicher
- Sicher
- Sicher
- Kaum bedenklich
- Sicher
- Sicher
- Sicher
Wo kaufen?
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